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| 序号 | 公布号 | 发明名称 | 公布日期 | 摘要 |
| 1 | CN201222166Y | 可调式硬面光掩模基板加工承载清洗器具 | 2009.04.15 | 本实用新型涉及硬面光掩模基板制造领域以及光学玻璃加工领域，尤其是一种用于硬面光掩模基板制造过程中的承 |
| 2 | CN101723372A | 用于多晶硅生产的三氯氢硅汽化装置的挥发器及控制系统 | 2010.06.09 | 本发明涉及多晶硅生产制造领域，是一种用于多晶硅生产过程中控制三氯氢硅与氢气比率的装置。本发明装置也可 |
| 3 | CN101630120A | 可调式硬面光掩模基板加工承载清洗器具及装配方法 | 2010.01.20 | 本发明涉及硬面光掩模基板制造领域以及光学玻璃加工领域，尤其是一种用于硬面光掩模基板制造过程中的承载清 |
| 4 | CN201362757Y | 用于多晶硅生产的三氯氢硅汽化装置的挥发器及控制系统 | 2009.12.16 | 本实用新型涉及多晶硅生产制造领域，是一种用于多晶硅生产过程中控制三氯氢硅与氢气比率的装置。本实用新型 |
| 5 | CN101450802A | 太阳能级多晶硅的生产方法 | 2009.06.10 | 本发明涉及一种太阳能级多晶硅生产方法，是在提纯回收得到的三氯氢硅的工序中，增加控制点及控制装置。所述 |
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